EVGROUP与INKRON共同开发下代光学组件的高折射率材料和纳米压印光刻技术

在EVG的NILPhotonics ® 技术处理中心，共同合作开发衍射光学的新材料，以应用于波导管、脸部识别传感器和其他光子组件

2020年2月17日，奥地利ST. FLORIAN和芬兰埃斯波—EV Group(EVG)，为MEMS、纳米科技和半导体市场提供晶圆键合和光刻设备的领导品牌供货商，今天宣布，它和专注于高折射率和低折射率涂层材料的制造商 INKRON开始合作伙伴关系。两间公司将为开发和生产高质量衍射光学组件（DOE）结构提供优化的制程和相符的高折射材料。这些DOE结构包括用于扩增实境/混合实境/虚拟现实（AR / MR / VR）的波导器件，以及在车用、消费电子和商业应用中的先进光学感测组件，如光束分离器和光束扩散器。

印刻有配备Inkron先进树脂的EVG光刻/纳米压印系统的光学组件结构

这伙伴关系正在EVG总部，位于奥地利 St. Florian的NILPhotonics®技术处理中心内开展 。EVG的NILPhotonics技术处理中心为NIL供应链中的客户和合作伙伴提供一个开放式创新平台，其目的为缩短新创光子组件及其应用的开发周期和产品上市时间。作为该协议的一部分，Inkron为自己的研发机构购买了EVG 7200 NIL系统，来加速新光学材料的开发和验证。EVG 7200系统利用EVG的创新SmartNIL ® 技术和材料经验，能够在大面积上大规模生产小至30 nm的微米和纳米级结构，其特色还包含它只需用到极小的力量同时保有结构不变形，快速的高功率曝光和平顺的脱模。.

“ 商用和消费者市场对晶圆级光学组件和传感器的需求正以惊人的速度增长，而这造成所需的原材料及工艺必须被优化，以达到市场所需的效能及产能，” EVG技术开发和IP总监，Markus Wimplinger这样说，“ Inkron在光学材料方面拥有广泛的专业知识，并且是高折射和低折射涂层材料的领先制造商之一，因此Inkron成为与我们在NILPhotonics技术处理中心合作的理想伙伴。像这样的合作使EVG能够进一步探索和扩展我们NIL技术的应用和特性，而得以为下一代光学组件和其最终产品提供可用于量产的解决方案。”

光学组件和组件的材料特性，对已封装的光学组件整体效能及大小有着极大影响。举例来说，较高的折射率（RI≧1.9 以上）可优化光萃取效能，进而显著提升光导管可见视野，提供给AR / VR头罩更逼真的体验。高折材料还可以提供更高的光密度，使衍射光学更有效地用于分束器（例如脸部识别的传感器），如此未来的光学组件就可变得更小。高折射材料的附加优化可以改善膜的透明度，并减少雾度和散射，从而提供更好的对比度；而改善的树脂稳定性可以满足更严苛的热要求，如车用方面的需求。

为NIL制程而调配的高折材料，有助于确保NIL制程在量产化的实现。NIL 是一种被验证过的光学组件制造方法，因为它能够在保有其经济效益下，于量产中做出纳米等级的结构，而且并不限制于特别的尺寸、形状和复杂性。

“我们很高兴与EVG合作，这将加速我们推出更新、更优化和更创新的光学材料技术，这些技术对实现我们客户的关键性能指针有着很大的帮助。” Inkron执行长Juha Rantala表示，“我们的纳米压印高折材料和搭配的填充涂层，再加上EVG领先的NIL系统，为光学制造商提供了关键的晶圆级解决方案，这可以让他们最新产品能更大量的生产。”

晶圆级光学(WLO)的应用和解决方案

EVG的NIL系统构成了该公司WLO制造解决方案的关键部件，这使得大量新的光感器可用于移动消费电子产品中。举例包括3D感应、飞行时间、结构光、生物识别、脸部识别、虹膜扫描、光学指纹、光谱感应、环境感应和红外线热成像。其他应用包括车用照明、光地毯、抬头显示器、车内感应和LiDAR(激光雷达)，以及用于内窥镜相机，眼科应用和外科手术机器人的医学成像。EVG的WLO解决方案由该公司NILPhotonics技术处理中心提供。

关于Inkron

长濑集团成员Inkron是高折射和低折射涂层材料的开发商和制造商。这些业界领先的光学涂料包含在VIS / NIR范围内，有着破纪录的折射率，其折射率介于1.1到2.0之间。高折射材料针对纳米压印光刻（NIL）制程进行了优化。应用包括DOE（衍射光学组件），如AR / MR / VR设备的波导管、光学扩散器、LIDAR和其他光子应用。高折射材料可同时搭配Inkron的低折射材料，其低折射范围为1.1-1.4。低折射材料的典型应用包括抗反射涂层（可见光和NIR范围）、波导管包覆层和接着层。自制合成的树脂和配方具有光学透明性，热稳定性，并且可以满足商业需求的严苛应用。Inkron的其他产品包括导热粘合剂，封装胶和一系列可印刷胶材。

关于EV Group（EVG）

EV集团（EVG）是为半导体、微机电系统（MEMS）、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的领先供应商。其主要产品包括：晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/纳米压印光刻（NIL）与计量设备，以及涂胶机、清洗机和检测系统。EV集团成立于1980年，可为遍及全球的众多客户和合作伙伴网络提供各类服务与支持。